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摘要: 

本發(fā)明公開(kāi)了一種PVD鍍膜件、電鍍件的高精清洗工藝，包括依次設(shè)置的工序：水洗一段、氣洗一段、水洗二段、水洗三段、水洗四段、氣洗二段、水洗五段、皂化清洗、真空切水、碳?xì)淝逑础⒄羝∠磁c干燥以及氣相清洗，通過(guò)對(duì)各個(gè)工序中的真空度、清洗劑溫度、超聲波頻率、清洗時(shí)間的控制以及清洗劑的選擇，從而形成對(duì)PVD鍍膜件、電鍍件的高精清洗。本發(fā)明對(duì)污染物處理徹底，良率可提高到98％以上，工藝精減，大大減少了安裝空間，采用環(huán)保的清洗劑，符合環(huán)保要求，減排廢水97％以上，工序后段清洗劑可回收程度高，清洗成本低。

主權(quán)利要求: 

1.一種PVD鍍膜件、電鍍件的高精清洗工藝，其特征在于，包括依次設(shè)置的如下工序：

水洗一段，在真空度為-30～-75Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為75～85℃的堿性水基清洗劑中，同時(shí)將頻率為28KHz、大小為60～100％超聲波接入堿性水基清洗劑中，工件于堿性水基清洗劑中拋動(dòng)480～720s；

氣洗一段，首先進(jìn)行抽氣，對(duì)工件進(jìn)行負(fù)壓處理，至壓力值為-80Kpa后，保持1～5s，再通入氣體，對(duì)工件進(jìn)行正壓處理，至壓力值為零，正負(fù)壓作用反復(fù)交替，正負(fù)壓作用的總時(shí)間為240～360s；

水洗二段，在真空度為-30～-75Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為55～85℃的水基清洗劑中，同時(shí)將頻率為28KHz、大小為60～100％超聲波接入水基清洗劑中，工件于水基清洗劑中拋動(dòng)480～720s；

水洗三段，在真空度為-30～-75Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為45～50℃、質(zhì)量濃度為40～50％的堿性水基清洗劑中，同時(shí)將頻率為28KHz、大小為60～100％超聲波接入堿性水基清洗劑中，工件于堿性水基清洗劑中拋動(dòng)480～720s；

水洗四段，在真空度為-30～-75Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為65～75℃的酸性水基清洗劑中，同時(shí)將頻率為28KHz、大小為60～100％超聲波接入酸性水基清洗劑中，工件于酸性水基清洗劑中拋動(dòng)240～360s；

氣洗二段，首先進(jìn)行抽氣，對(duì)工件進(jìn)行負(fù)壓處理，至壓力值為-80Kpa后，保持1～5s，再通入氣體，對(duì)工件進(jìn)行正壓處理，至壓力值為零，正負(fù)壓作用反復(fù)交替，正負(fù)壓作用的總時(shí)間為240～360s；

水洗五段，在真空度為-30～-75Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為65～75℃的酸性水基清洗劑中，同時(shí)將頻率為28KHz、大小為60～100％超聲波接入酸性水基清洗劑中，工件于酸性水基清洗劑中拋動(dòng)240～360s；

皂化清洗，在真空度為-80Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為25～35℃的碳?xì)湓砘瘎┲?，同時(shí)將頻率為28KHz、大小為60～100％超聲波接入碳?xì)湓砘瘎┲?，工件于碳?xì)湓砘瘎┲袙亜?dòng)480～720s；

真空切水，在真空度為-80Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為40～45℃的碳?xì)淝兴畡┤芤褐袙亜?dòng)480～720s；碳?xì)淝逑?，在真空度?80Kpa的真空條件下，將工件置于溫度為45～50℃的碳?xì)淝逑磩┲校瑫r(shí)將頻率為28KHz、大小為60～100％超聲波接入碳?xì)淝逑磩┲校ぜ谔細(xì)淝逑磩┲袙亜?dòng)480～720s；

蒸汽浴洗與干燥，在真空度為-90Kpa的條件下，先將工件置于溫度為90～110℃的碳?xì)湔羝羞M(jìn)行真空浴洗，清洗時(shí)間為30～60s，完成真空浴洗后，調(diào)整真空度為-100Kpa，并在溫度為90～110℃條件下干燥480～720s；

氣相清洗，在真空度小于4Pa的條件下，按100～400ml/分鐘的速率通入無(wú)機(jī)氣體，并在射頻電源的作用下無(wú)機(jī)氣體分解成高速運(yùn)轉(zhuǎn)的離子狀撞擊工件表面，形成真空條件下的氣相清洗，清洗時(shí)間為180～360s，所述無(wú)機(jī)氣體選自但不局限于O2、H2、N2、Ar2。