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真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù)

， 在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。與傳統(tǒng)化學(xué)鍍膜方法相比，真空鍍膜有很多優(yōu)點(diǎn)：如對(duì)環(huán)境

無污 染，是綠色環(huán)保工藝；對(duì)操作者無傷害；膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強(qiáng)，膜厚均勻。

真空鍍膜技術(shù)中經(jīng)常使用的方法主要有：蒸發(fā)鍍膜（包括電弧蒸發(fā)、電子槍蒸發(fā)、電阻絲蒸發(fā)等技術(shù)）、

濺射鍍膜（包 括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術(shù)），這些方法統(tǒng)稱物理氣相沉積

簡(jiǎn)稱為PVD。與之對(duì)應(yīng)的化學(xué)氣相沉積

）簡(jiǎn)稱為CVD技術(shù)。行業(yè)內(nèi)通常所說的“IP爐內(nèi)”離子鍍膜，是因?yàn)樵赑VD技術(shù)中各種氣體離

子和金屬離子參與成膜過程并起到重要作用，為了強(qiáng)調(diào)離子的作 用，而統(tǒng)稱為離子鍍膜。

真空鍍膜是一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。

此項(xiàng)技術(shù)用于生產(chǎn)激光唱片（光盤）上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。

在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用

減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，

即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。