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靶材是通過(guò)磁控濺射、電子束蒸發(fā)或其他類型的鍍膜系統(tǒng)（設(shè)備）在適當(dāng)?shù)墓に嚄l件下，濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。

一般靶材主要由靶坯、背板等部分構(gòu)成，其中，靶坯是高速離子束流轟擊的目標(biāo)材料，屬于濺射靶材的核心部分，在濺射鍍膜過(guò)程中，靶坯被離子撞擊后，其表面原子被濺射飛散出來(lái)并沉積于基板上制成電子薄膜。

靶材產(chǎn)業(yè)鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應(yīng)用等環(huán)節(jié)，靶材制造和濺射鍍膜環(huán)節(jié)是整個(gè)濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。

其中，濺射鍍膜的品質(zhì)對(duì)下游產(chǎn)品的質(zhì)量具有重要影響。在濺射鍍膜過(guò)程中，濺射靶材需要安裝在機(jī)臺(tái)中完成濺射反應(yīng)。#PVD鍍膜材料#

目前，薄膜材料的制備技術(shù)主要包括物理氣相沉積（PVD）技術(shù)和化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)。

其中PVD技術(shù)為主流鍍膜方法，具體是指在真空條件下采用物理方法，將某種物質(zhì)表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過(guò)低壓氣體過(guò)程，在基板材料表面沉積具有某種特殊功能的薄膜材料，根據(jù)操作技術(shù)可分為濺射鍍膜和真空蒸發(fā)鍍膜兩種方法。

PVD鍍膜材料用以制備各種具有特定功能的薄膜材料。主要的下游應(yīng)用領(lǐng)域包括平板顯示器、半導(dǎo)體功能器件、太陽(yáng)能電池、光學(xué)元器件等。

濺射機(jī)臺(tái)專用性強(qiáng)、精密度高，市場(chǎng)長(zhǎng)期被美國(guó)、日本跨國(guó)集團(tuán)壟斷，主要設(shè)備提供商包括AMAT（美國(guó)）、ULVAC（日本）、ANELVA（日本）、Varian（美國(guó)）等行業(yè)內(nèi)知名企業(yè)。

國(guó)內(nèi)高純?yōu)R射靶材生產(chǎn)企業(yè)已經(jīng)逐漸突破關(guān)鍵技術(shù)門檻，擁有了部分產(chǎn)品的規(guī)模化生產(chǎn)能力，形成了以江豐電子、阿石創(chuàng)、有研億金、隆華節(jié)能等為代表的專業(yè)從事高純?yōu)R射靶材的生產(chǎn)商。

江豐電子主要產(chǎn)品為各種高純?yōu)R射靶材，包括鋁靶、鈦靶、鉭靶、鎢鈦靶等，主要用于制備電子薄膜材料。目前，江豐電子產(chǎn)品主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、太陽(yáng)能電池及平板顯示器等。

阿石創(chuàng)從事各種PVD鍍膜材料研發(fā)、生產(chǎn)和銷售，主導(dǎo)產(chǎn)品為濺射靶材和蒸鍍材料兩個(gè)系列。

有研億金主要產(chǎn)品包括高純金屬靶材、蒸鍍材料、口腔正畸器材、醫(yī)療用介入支架和貴金屬合金、化合物等，其靶材產(chǎn)品主要包括鋁及其合金靶材、鈦靶、銅靶、鉭靶等。

隆華節(jié)能收購(gòu)的四豐電子主要從事高純金屬及合金材料業(yè)務(wù)，產(chǎn)品以鉬靶材為主。公司收購(gòu)的晶聯(lián)光電主要從事氧化銦錫（ITO）靶材的研發(fā)、生產(chǎn)和銷

這些企業(yè)研發(fā)實(shí)力雄厚、管理體制健全、上升前景廣闊，將有望打破濺射靶材核心技術(shù)由國(guó)外壟斷的局面，擴(kuò)大國(guó)產(chǎn)濺射靶材的市場(chǎng)份額。