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PVD真空鍍膜的物理過程
來源：長辰實業(yè) 日期：2020-08-31
PVD真空鍍膜的物理過程
PVD（物理氣相沉積技術(shù)）的基本原理可分為三個工藝步驟：
（1）鍍料的氣化：即鍍料的蒸發(fā)、升華或被濺射從而形成氣化源
（2）鍍料粒子（（原子、分子或離子）的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過碰撞，產(chǎn)生多種反應(yīng)
（3）鍍料粒子在基片表面的沉積
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